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レーザーテクが後場上げ幅を拡大、EUV露光装置の開発競争巡る楽観が広がる

材料
2026年9月3日 14時09分

レーザーテック<6920>が後場に上げ幅を拡大した。米ブルームバーグ通信がこの日、「中国は最先端の半導体製造装置の開発で約15年遅れている」と、ドイツのツァイス・グループの幹部が指摘したと伝えている。中国が極端紫外線(EUV)露光装置を開発するには、15年かかるとの見方について、妥当な想定との見解を示したという。これを受け、EUV向けのマスク検査装置を手掛けるレーザーテクに対しては、中国勢のキャッチアップが相当先になり、より長く収益を確保できるとの楽観が台頭。報道を手掛かりとした買いが入ったようだ。

出所:MINKABU PRESS

株探ニュース

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